технологии печати
и отображения информации

Экспонирующая установка KMF-AE

Модуль для обратного и прямого экспонирования фотополимерных пластин  люминесцентными лампами УФ-А (спектр излучения 315-380 нм),  фотополимерных пластин  люминесцентными лампами, встроенными в автоматическую подъёмную крышку аппарата «Top Lift». Экспонирующий блок управляется с помощью  электронного балласта KEMAO, который осуществляет контроль стабильности работы ламп, защищает их от перегрузки при скачках напряжения в сети и перегрева. Также оборудование снабжено специальным термостатом, который поддерживает температурный режим во время проведения экспонирования  для предотвращения перегрева системы.

Отличное качество вакуума обеспечивается мощным 4 литровым вакуумным насосом.


Максимальный формат обрабатываемой пластины, мм

1520х1060

2030х1060

2030х1200

2030х1320

2540х1320

Габариты оборудования, мм

2480х1460х2100

2990х1460х2100

2990х1530х2100

2990х1730х1130

3430х1730х1130

Мощность УФ-А ламп, Ватт

60

60

60

60

60

Напряжение, Вольт

220/380

220/380

220/380

220/380

220/380