технологии печати
и отображения информации

Экспонирующая установка KMF-LEL

Модуль для обратного и прямого экспонирования фотополимерных пластин  люминесцентными лампами УФ-А (спектр излучения 315-380 нм),  встроенными в откидываемую крышку аппарата.

Экспонирующий блок управляется с помощью  электронного балласта KEMAO, который осуществляет контроль стабильности работы ламп, защищает их от перегрузки при скачках напряжения в сети и перегрева. Также оборудование снабжено специальным термостатом, который поддерживает температурный режим во время проведения экспонирования  для предотвращения перегрева системы.

Отдельная секция финишной обработки фотополимерных форм люминесцентными лампами УФ-С (спектр излучения 200-280 нм) для устранения повышенной липкости флексоформ после их проявления. Управление источником засветки осуществляется контроллером Philips. Рабочая поверхность – коррозионностойкая эпоксидная плита. Секция содержит мощную вытяжку для отвода озона из рабочей зоны и для предотвращения коррозии металлических компонентов устройства.  

  

Максимальный формат обрабатываемой пластины, мм

1120 х 800

1430х920

1520х1060

2030х1120

Габариты оборудования, мм

1390 х 1120 х 1020

1750х1240х1020

1780х1380х1020

2290х1450х1020

Мощность УФ-А ламп, Ватт

60

60

60

60

Мощность УФ-С ламп, Ватт

36

36

36

36

Напряжение, Вольт

220/380

220/380

220/380

220/380