Модуль для обратного и прямого экспонирования фотополимерных пластин люминесцентными лампами УФ-А (спектр излучения 315-380 нм), фотополимерных пластин люминесцентными лампами, встроенными в автоматическую подъёмную крышку аппарата «Top Lift». Экспонирующий блок управляется с помощью электронного балласта KEMAO, который осуществляет контроль стабильности работы ламп, защищает их от перегрузки при скачках напряжения в сети и перегрева. Также оборудование снабжено специальным термостатом, который поддерживает температурный режим во время проведения экспонирования для предотвращения перегрева системы.
Отличное качество вакуума обеспечивается мощным 4 литровым вакуумным насосом.
|
Максимальный формат обрабатываемой пластины, мм |
1520х1060 |
2030х1060 |
2030х1200 |
2030х1320 |
2540х1320 |
|
Габариты оборудования, мм |
2480х1460х2100 |
2990х1460х2100 |
2990х1530х2100 |
2990х1730х1130 |
3430х1730х1130 |
|
Мощность УФ-А ламп, Ватт |
60 |
60 |
60 |
60 |
60 |
|
Напряжение, Вольт |
220/380 |
220/380 |
220/380 |
220/380 |
220/380 |