Модуль для обратного и прямого экспонирования фотополимерных пластин люминесцентными лампами УФ-А (спектр излучения 315-380 нм), встроенными в откидываемую крышку аппарата.
Экспонирующий блок управляется с помощью электронного балласта KEMAO, который осуществляет контроль стабильности работы ламп, защищает их от перегрузки при скачках напряжения в сети и перегрева. Также оборудование снабжено специальным термостатом, который поддерживает температурный режим во время проведения экспонирования для предотвращения перегрева системы.
Отдельная секция финишной обработки фотополимерных форм люминесцентными лампами УФ-С (спектр излучения 200-280 нм) для устранения повышенной липкости флексоформ после их проявления. Управление источником засветки осуществляется контроллером Philips. Рабочая поверхность – коррозионностойкая эпоксидная плита. Секция содержит мощную вытяжку для отвода озона из рабочей зоны и для предотвращения коррозии металлических компонентов устройства.
|
Максимальный формат обрабатываемой пластины, мм |
1120 х 800 |
1430х920 |
1520х1060 |
2030х1120 |
|
Габариты оборудования, мм |
1390 х 1120 х 1020 |
1750х1240х1020 |
1780х1380х1020 |
2290х1450х1020 |
|
Мощность УФ-А ламп, Ватт |
60 |
60 |
60 |
60 |
|
Мощность УФ-С ламп, Ватт |
36 |
36 |
36 |
36 |
|
Напряжение, Вольт |
220/380 |
220/380 |
220/380 |
220/380 |